真空蒸镀又称热蒸发蒸镀法
工艺关键词:高温溶解蒸发、沉积后覆膜
依薄膜材料之加热方式之不同,真空蒸镀又可分为间接加热型与直接加热型。
1. 间接加热型:只针对蒸发源加热,间接使其上之薄膜材料因热而蒸发;
2. 直接加热型:利用高能粒子(电子束,电浆或镭射)或高频,耳机配件真空电镀价格,直接使置于蒸发源上之薄膜材料升温而蒸发;
为避免蒸发源(容器)随着薄膜材料一同被蒸发,蒸发源材质的熔点一定要高于薄膜材料的沸点。
pvd真空电镀的膜层严格上来说,是属于装饰膜层,它并不能改变原来工件所拥有的表面特性。如果产品本身毛胚粗糙,耳机配件真空电镀,那么电镀出来就是粗糙的,如果想要光滑的表面,应该通过抛光技术去改变产品表面特性,要么就通过电镀底层膜层让产品变光滑。
pvd真空电镀的膜层的厚度大约在0.2μm-2μm左右,虽然不能让产品变光滑,但是能够在不影响工件表面下进行膜层电镀,提高产品的物理性能,耳机配件真空电镀,诸如耐磨、耐刮擦、耐腐蚀等等,耳机配件真空电镀加工,为产品增加附加值。
真空系统的基本知识
真空的定义:压力低于一个---压的任何气态空间,采用真空度来表示真空的高低。
真空单位换算:1---压≈1.0×105帕=760mmhg=760托
1托=133.3pa=1mmhg
1bar=100kpa
1mbar=100pa
1bar=1000mbar
tco玻璃=transparent conductive oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃
tco材料:
sno2:f(fto fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)
zno:al(azo aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)
in2o3:sn(ito indium tin oxide 氧化铟锡)
tco薄膜的制备工艺
1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的,改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好,薄膜生长温度低,与基板附着性好,能大面积均匀制膜且制膜成本低。
2.主要生产工艺:镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度;刻蚀过程中有hcl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。
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