pvd电镀工厂-佛山pvd电镀-瑞泓科技公司

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    2023-12-30

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真空镀膜和光学镀膜的概念和区别

1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,佛山pvd电镀,真空镀铝、真空镀铬等。

2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。






哪些产品可以pvd真空电镀

小五金产品

(钟表、手机壳、手机---头、皮带扣、钥匙扣、u盘(电子数码)、箱包拉链配件等)

主要电镀颜色:

ip金色(ipgin18,ipgin14),pvd电镀加工价格,ip玫瑰金,ip黑色,ip蓝色,pvd电镀工厂,ip铬色,ip咖啡色及各种颜色的ip间色加工。

所有产品均采用真空炉内纳米离子镀膜及磁控溅射处理,所应用的镀料均有合格的检测证明,电镀高,pvd电镀哪里有,---。




真空系统的基本知识

真空的定义:压力低于一个---压的任何气态空间,采用真空度来表示真空的高低。

真空单位换算:1---压≈1.0×105帕=760mmhg=760托

1托=133.3pa=1mmhg

1bar=100kpa

1mbar=100pa

1bar=1000mbar

tco玻璃=transparent conductive oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃

tco材料:

sno2:f(fto fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)

zno:al(azo aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)

in2o3:sn(ito indium tin oxide 氧化铟锡)

tco薄膜的制备工艺

1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的,改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好,薄膜生长温度低,与基板附着性好,能大面积均匀制膜且制膜成本低。

2.主要生产工艺:镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度;刻蚀过程中有hcl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。







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