真空电镀工艺的整个工艺过程都是在高真空状态下在设备腔体内完成，所以通常只要设备设定参数与工艺要求相吻合时通常良品率会---，但偶有操作不当也会产生，下面介绍几种现场品控的方法以供参考。
（1）目视法
目视法主要是通过观察电镀成品与样件膜层外观来品控产品的方法，虽然简单却又是不可或缺的，不同的膜材在经过真空电镀后会表现出不同的颜色，不同的---，如铝的亮白、锡的黑灰、铬的q黑、在工艺完成后都会呈现在基材表面。所以当出现电镀成品的膜层外观与样件膜层外观不符时，首先要确定的是膜材是否置放正确，其次是确定工艺参数是否与该工艺相吻合，确定是否有操作不当。
（2）百格法
百格法即用百格刀或美工刀在膜层表面划出大约100个1mm见方的小格然后用胶带粘定后测试膜层与基体附着成度的方法。测定法方如下：
a) 首先在膜层表面用百格刀划出10*10个1mm见方的的网格，网格要穿透膜层。
b) 用相应胶带轻轻附在百格表面，并用手指覆压赶出二者之间气泡，然后静置1分钟，左手握住测试样品，右手食指和拇指捏住胶带一端，以与基材表面90度角的力迅速拉起胶带，反复三次以没有膜层脱落为合格。
（3）电流测定法
电流测定法主要针对于不导电金属和合金膜的测定，通过测定膜层表面电流来检测镀膜产品是否合格。
测定方法是：在膜层表---距1cm的距离分别放置电流表的两个探头，打开电流表，观察电流表指针的情况。然后根据工艺要求来确定膜层是否合格。此种方法不仅可以检测所镀膜层是否是所需膜层，还可以根据电流情况来判断膜层厚度是否满足工艺要求。
真空电镀：vacuum metalizing，即是物理气相沉积（pvd），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
真空镀膜的方法材料：
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3pa，然后将阴极接上2000v的直流电源，便激发辉光放电，手机配件ip电镀价格，带正电的ya离子撞击阴极，手机配件ip电镀哪里好，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，台州手机配件ip电镀，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
光学镀膜方法材料
(1)---镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制光学镀膜可提高透过率，不出崩点。
(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，手机配件ip电镀加工厂家，化学稳定性好。纯度高，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
(3)氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高氧化锆镀膜，不出崩点。
真空蒸发镀膜中采用的被镀材料称为薄膜材料，简称膜材或镀材。在溅射镀膜中称为靶材如果从所用薄膜材料的种类来看，主要分为以下几种薄膜材料。
（1）纯金属材料
对于纯金属材料，由于它的蒸发（升华）是单一的，因此，淀积到基体上的薄膜材料与从蒸发源上发出来的膜材完全相同。只要避免它在加热蒸发过程中杂志的混入，就可以得到组分单一的纯金属膜层。
（2）金属合金
蒸发合金时会出现分馏（成分的部分分离）。因为不同金属的蒸发速率的差异。
（3）绝缘体和介质
大多数绝缘体和介质蒸发时会发生分解，或与加热器材料发生化学变化。由于两者都和蒸发源温度有关。因此淀积膜的成分随蒸发源温度而变化。
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