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离子镀

工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材

主要原理是利用气体放电现象，将薄膜材料解离成离子状态，而后沉积于基板上。

离子镀的基本镀膜系统为pvd系统，耳机配件真空电镀加工，只是多加入反应性气体，永州耳机配件真空电镀，使其与蒸发后的薄膜材料反应，而后沉积在基板上形成化合物，所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同，是基材靶材的化合物。

离子镀基本上包括三个步骤 :

1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;

2. 将气态原子变成离子态，以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子，以达到始之离子化的程度;

3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压，以达到加速离子的能力。

离子镀原理

离子镀的特点如下:

1. 离子镀可在较低温度600度下进行;

2. 附着性---;

3. 绕射性----带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;

4. 沉积速度快，可达1~5um，而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;

5. 加工性及薄膜材料的选择性广，可加工除金属外，陶瓷，玻璃 ，耳机配件真空电镀加工厂，塑胶均可，而薄膜材料的选择也很广泛，金属，合金，化合物皆可。

真空蒸发镀膜中采用的被镀材料称为薄膜材料，简称膜材或镀材。在溅射镀膜中称为靶材如果从所用薄膜材料的种类来看，主要分为以下几种薄膜材料。

（1）纯金属材料

对于纯金属材料，由于它的蒸发（升华）是单一的，因此，淀积到基体上的薄膜材料与从蒸发源上发出来的膜材完全相同。只要避免它在加热蒸发过程中杂志的混入，就可以得到组分单一的纯金属膜层。

（2）金属合金

蒸发合金时会出现分馏（成分的部分分离）。因为不同金属的蒸发速率的差异。

（3）绝缘体和介质

大多数绝缘体和介质蒸发时会发生分解，或与加热器材料发生化学变化。由于两者都和蒸发源温度有关。因此淀积膜的成分随蒸发源温度而变化。