




真空电镀的很大程度上取决于设备和环境清洁度(无尘度)。
1、设备简介
大型设备有自动流水线体(含uv流水线)、真空镀膜机、辅助设备有产品治具、工装夹具、有的厂还配有机器人。
2、环境要求
1、喷漆房外室:作业环境至少在10万级以下
真空流水线体
喷漆房内
静电除尘段,作业环境至少在1万级以下。
真空镀膜机
一般为门式装置,手机配件ip电镀公司,打开门可装、卸(半)产品,关上门即可设定参数、真空作业,此过程工艺环境必须在10万级一下操作

哪些产品可以pvd真空电镀
小五金产品
(钟表、手机壳、手机---头、皮带扣、钥匙扣、u盘(电子数码)、箱包拉链配件等)
主要电镀颜色:
ip金色(ipgin18,ipgin14),ip玫瑰金,ip黑色,ip蓝色,ip铬色,ip咖啡色及各种颜色的ip间色加工。
所有产品均采用真空炉内纳米离子镀膜及磁控溅射处理,所应用的镀料均有合格的检测证明,电镀高,---。
真空系统的基本知识
真空的定义:压力低于一个---压的任何气态空间,采用真空度来表示真空的高低。
真空单位换算:1---压≈1.0×105帕=760mmhg=760托
1托=133.3pa=1mmhg
1bar=100kpa
1mbar=100pa
1bar=1000mbar
tco玻璃=transparent conductive oxide 镀有透明导电氧化物的玻璃
tco材料:
sno2:f(fto fluorine doped tin oxide氟掺杂yang化锡)
zno:al(azo aluminum doped zinc oxide铝掺杂氧化锌)
in2o3:sn(ito indium tin oxide 氧化铟锡)
tco薄膜的制备工艺
1. 薄膜的性质是由制备工艺决定的,改进制备工艺的努力方向是使制成的薄膜电阻率低、透射率高且表面形貌好,薄膜生长温度低,与基板附着性好,能大面积均匀制膜且制膜成本低。
2.主要生产工艺:镀膜过程中有气压、基片温度、靶材功率、镀膜速度;刻蚀过程中有hcl浓度、刻蚀速度、刻蚀温度。

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