耳机配件真空电镀-深圳瑞泓科技有限公司

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    2023-11-22

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真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

1.蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响

蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的膜层结构松散易产生大颗粒沉积,为---涂层结构的致密性,选择较高的蒸发速率是十分安全的。当真空室内残余气体的压力一定时,则轰击基片的轰击速率即为定值。因此,选择较高沉积速率后的沉积的膜内所含的残余气体会得到减小,从减小了残余气体分子与蒸镀膜材的化学反应。故,沉积膜的纯度即可提高。应当注意的是,沉积速率如果过大可能增加膜的内应力,耳机配件真空电镀报价,致使膜层内缺陷增大,---时可导致膜层破。---是,在反应蒸镀过程中,为了使反应气体与镀膜材料粒子能够进行充分的反应,可选择较低的沉积速率。当然,对不同的材料蒸镀应当选用不同的蒸发速率。作为沉积速率低会影响膜的性能的实际例子,是反射膜的沉积。如膜厚为600*10-8cm,蒸镀时间为3s时,耳机配件真空电镀,其反射率为93%。但是,如果在同样的膜厚条件下将蒸速率放慢,采用10min的时间来完成膜的沉积。这时膜的厚度虽然相同。但是,反射率已下降到68%。

2.基片温度对蒸发涂层的影响

基片温度对蒸发涂层的影响很大。高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排出。---是水蒸气分子的排除更为重要。而且,在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变,从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸汽分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异,从而减少或消除膜基界面的内应力。此外,由于基片温度与膜的结晶状态有关,在基片温度低或不加热的条件下,往往容易形成非结晶态涂层。相反在较高温度时,则易于生成晶态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然,基片温度也不能过高,以防止蒸发涂层的再蒸发。




因镀膜机在真空状态下蒸发靶材生成镀层,故将此制程称为真空电镀。

真空电镀原理:其过程是在真空条件下,采用低电压、高电流的方式将蒸源通电加热,靶材在通电受热的情况下分散到工件表面,并以不定形或液态状沉积在工件表面,冷却成膜的过程

真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(vm)和不导电真空镀膜(ncvm)两种。

vm:一般用在化妆品类、nb类、3c类、汽配类按键、装饰框、按键ring类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相---,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。

ncvm:具有金属---、透明,但不导电,一般用在通讯类、3c类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、ring类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。


膜层结构分布

基材:abs、pc、abs、pp、ppma、pom等树脂类均可成型真空电镀,要求底材为纯原料,电镀级别---,不可加再生材;

底漆:uv底漆,对基材表面做预处理,为膜层的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情况可酌情加厚;

膜层:靶材蒸发的结果,vm膜层可导电,ncvm镀层不导电,耳机配件真空电镀表面处理,且抗干扰性效果---,膜层厚度0.3um以下。

面漆:面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色,同時对真空膜层起保护作用,再加上uv、pu的表面装饰,效果更漂亮,厚度 一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚 。

面漆颜色多变效果机理:利用三基色原理将面漆与色浆混合调试达成.








在表面处理工艺上,真空电镀成为新趋势。更安全、更节能、降低噪声、减少污染排放的特点,与一般电镀不同,真空电镀,可以生产出普通电镀无法达到的光泽度---的黑色效果。

真空电镀步骤:在工件上先喷一层底漆,再做电镀。由于工件是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分。另外,由于塑料表面不够平整,直接电镀的工件表面不光滑,光泽低,金属感差,并且会出现气泡,耳机配件真空电镀价格,水泡等---状况。喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且避免了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得电镀的效果得以展现。

真空电镀工艺流程复杂,非常依赖人工操作。工件(靶材)需要喷涂、装卸、再喷涂,并且也取决于工件的复杂度和数量,所以人力成本---。真空环境下辐射小、环境污染小,真空电镀现为各行业中广泛应用。




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