耳机配件真空电镀加工厂-耳机配件真空电镀-瑞泓科技

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    2024-2-11

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真空电镀工艺的流程

1.加热蒸发过程

包括固相或液相转变为气相的过程,每种物质在不同的温度下有不同的饱和蒸气压。

2.气化原子或分子在蒸发源与基片之间的运输过程

此过程中气化原子或分子与残余气体分子发生碰撞,其碰撞与蒸发原子或分子的平均自由程以及蒸发源到基板距离有关。

3. 蒸发原子或分子在基片表面的沉积过程

即蒸汽的凝聚成核,核生长形成连续膜,为气相转变为固相的过程。

上述过程必须在空气稀薄的真空环境中(10-2~1pa)进行,否则蒸发粒子将于空气分子碰撞,使膜污染甚至形成氧化物,或者蒸发源氧化烧毁等。


真空电镀工艺流程复杂,非常依赖人工操作。工件(靶材)需要喷涂、装卸、再喷涂,并且也取决于工件的复杂度和数量,所以人力成本---。真空环境下辐射小、环境污染小,真空电镀现为各行业中广泛应用。


真空电镀前处理一般为化学清洗,根据油脂的种类和性质,除油剂包含两种主体成分,碱类助洗剂和表面活性剂。

1、碱类物质。碱类助洗剂常用的为q氧化钠、纯碱、硅酸钠和三聚磷酸钠。q氧化钠和纯碱作为碱剂,价格为便宜,废水较难处理,有时因为碱性偏强导致清洗物体受到损伤,另一方面q氧化钠和纯碱没有乳化作用对于矿物油清洗没有任何效果;

硅酸钠与三聚磷酸钠既能提供碱性,又能提供一定的乳化力,广泛的用于各种除油清洗剂中---是对碱敏感的除油工艺。使用硅酸钠大的缺陷是除油后若不用热水先洗一道,直接冷水洗很难将残留的硅酸钠完全洗净,残留的硅酸钠会与下一道工序的酸反应生成附着牢固的硅胶,从而影响镀层的结合力;三聚磷酸钠则主要存在磷污染破坏环境的担忧。

2、表面活性剂。表面活性剂是除油剂的核x成分,早期的除油剂是以乳化剂的乳化作用为主,如脂肪醇聚氧乙烯醚(aeo)系列、烷j酚聚氧乙烯醚(tx、np)系列等。过多的使用乳化剂会将脱落的油脂乳化增溶于工作液中,导致工作液除油能力逐渐下降,需要频繁更换工作液。

但是随着表面活性剂价格的上升,越来越要求降低表面活性剂的使用量,耳机配件真空电镀哪里近,提高除油的速率,这就要求除油剂具有---的分散和抗二次沉积性能,将脱落的油脂从金属表面剥离,在溶液中不乳化、不皂化,只是漂浮在溶液表面,保持槽液的清澈与持续的除油能力。

另一方面,适合除油的表面活性剂一般为非离子类型的产品,非离子产品普遍价位较高,为了降低除油剂成本,阴离子的产品也会出现有的除油剂的配方中,---是同时具有非离子性质的阴离子型表面活性剂脂肪酸---乙---化物磺酸盐(fmes),具有优异的“分散卷离”特点,有助于油脂的非乳化式剥离去除。





真空电镀:vacuum metalizing,耳机配件真空电镀加工,即是物理气相沉积(pvd),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。

真空镀膜的方法材料:

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3pa,然后将阴极接上2000v的直流电源,耳机配件真空电镀加工厂,便激发辉光放电,带正电的ya离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

光学镀膜方法材料

(1)---镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,耳机配件真空电镀,不出崩点。

(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高氧化锆镀膜,不出崩点。



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