




真空镀膜和光学镀膜的概念和区别
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

真空电镀前处理一般为化学清洗,真空电镀加工价格,根据油脂的种类和性质,除油剂包含两种主体成分,碱类助洗剂和表面活性剂。
1、碱类物质。碱类助洗剂常用的为q氧化钠、纯碱、硅酸钠和三聚磷酸钠。q氧化钠和纯碱作为碱剂,价格为便宜,废水较难处理,有时因为碱性偏强导致清洗物体受到损伤,另一方面q氧化钠和纯碱没有乳化作用对于矿物油清洗没有任何效果;
硅酸钠与三聚磷酸钠既能提供碱性,又能提供一定的乳化力,广泛的用于各种除油清洗剂中---是对碱敏感的除油工艺。使用硅酸钠大的缺陷是除油后若不用热水先洗一道,直接冷水洗很难将残留的硅酸钠完全洗净,残留的硅酸钠会与下一道工序的酸反应生成附着牢固的硅胶,从而影响镀层的结合力;三聚磷酸钠则主要存在磷污染破坏环境的担忧。
2、表面活性剂。表面活性剂是除油剂的核x成分,早期的除油剂是以乳化剂的乳化作用为主,如脂肪醇聚氧乙烯醚(aeo)系列、烷j酚聚氧乙烯醚(tx、np)系列等。过多的使用乳化剂会将脱落的油脂乳化增溶于工作液中,导致工作液除油能力逐渐下降,需要频繁更换工作液。
但是随着表面活性剂价格的上升,真空电镀加工厂,越来越要求降低表面活性剂的使用量,提高除油的速率,这就要求除油剂具有---的分散和抗二次沉积性能,将脱落的油脂从金属表面剥离,娄底真空电镀,在溶液中不乳化、不皂化,只是漂浮在溶液表面,保持槽液的清澈与持续的除油能力。
另一方面,适合除油的表面活性剂一般为非离子类型的产品,非离子产品普遍价位较高,为了降低除油剂成本,阴离子的产品也会出现有的除油剂的配方中,---是同时具有非离子性质的阴离子型表面活性剂脂肪酸---乙---化物磺酸盐(fmes),具有优异的“分散卷离”特点,真空电镀哪里好,有助于油脂的非乳化式剥离去除。

真空电镀可以在低成本的前提下,可以将廉价材料(如abs)的表面处理成金属表面的效果
真空电镀的工件表面保持干燥光滑,否则将---的影响表面效果
真空电镀的尺寸不仅受真空腔室体积的影响,还取决于工件本身的尺寸,例如板材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3d工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)
真空电镀非常依赖人工操作,真空电镀过程中,工件需要喷涂,装载,卸载和再喷涂,所以人力成本相当高,但是也取决于工件的复杂度和数量。真空电镀对环境污染很小,类似于喷涂对环境的影响
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