




真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺,因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。
从这一原理图中不难看出,真空电镀工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子(主要是原子)在气相中的迁移、到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个---成膜条件是十分---的。
pvd镀膜可以镀膜出的颜色种类:可镀ipg、ip紫色、ip玫瑰金色、ip钨钢色、ip铬色、ip咖啡色、ip红、ip钛色、ip蓝色及ip黑、ip灰等,可以通过控制镀膜过程的相关参数来控制镀出来的颜色,手机配件ip电镀,镀膜结束后可以用相关的仪器对镀膜出来的颜色进行检查,手机配件ip电镀哪里好,使颜色得到准确来满足客户要求。
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真空电镀是在真空条件下用蒸发器加热待蒸发物质,使其气化并向基板运输在基板上冷凝形成固态薄膜的过程。
真空电镀与其他气相沉积技术相比有许多优点:设备比较简单、容易操作;制备的薄膜纯度高、成膜速度快;薄膜生长机理简单,易控制和模拟。
真空电镀技术的不足:不易获得结晶结构的薄膜;沉积的薄膜与基板的附着性较差;工艺重复性不够好。
真空蒸发镀膜原理
(1、基片加热电源;2、真空室;3、基片架;4、基片;5、膜材;6、蒸发盘;7、加热电源;8、排气口;9、真空密封;10、挡板;11、蒸汽流)

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