




何为国际检测标准的“真金”电镀呢?意思就是不锈钢真空电镀加工使用的靶材为真金,并且电镀中的铅,镍,镉等元素含量均符合控制范围,所以称之为符合标准检测的“真金”电镀。
产品进行不锈钢真空电镀加工后,会形成细密均匀的膜层,硬度高,结合力强,由于厚度比较高,耐磨防腐蚀。目前许多五金行业电镀都采用这种技术,如饰品电镀加工、钟表镀膜加工、数码配件镀膜、五金件镀膜等。

随着激光技术的发展,对膜层的反射率和透过率有不同的要求,促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后,pvd电镀哪里近,光在膜层层上多次反射和透射,形成多光束干涉,pvd电镀,控制膜层的折射率和厚度,可以得到不同的强度分布,这是干涉镀膜的基本原理。

真空电镀:vacuum metalizing,即是物理气相沉积(pvd),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
真空镀膜的方法材料:
(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3pa,pvd电镀,然后将阴极接上2000v的直流电源,便激发辉光放电,带正电的ya离子撞击阴极,使其射出原子,pvd电镀厂,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
光学镀膜方法材料
(1)---镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,不出崩点。
(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高氧化锆镀膜,不出崩点。

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