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真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

1.蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响

蒸发速率的大小对沉积膜层的影响较大。由于低的沉积速率形成的膜层结构松散易产生大颗粒沉积，为---涂层结构的致密性，宝安手机配件ip电镀，选择较高的蒸发速率是十分安全的。当真空室内残余气体的压力一定时，则轰击基片的轰击速率即为定值。因此，选择较高沉积速率后的沉积的膜内所含的残余气体会得到减小，从减小了残余气体分子与蒸镀膜材的化学反应。故，沉积膜的纯度即可提高。应当注意的是，沉积速率如果过大可能增加膜的内应力，致使膜层内缺陷增大，手机配件ip电镀哪里有，---时可导致膜层破。---是，在反应蒸镀过程中，为了使反应气体与镀膜材料粒子能够进行充分的反应，可选择较低的沉积速率。当然，对不同的材料蒸镀应当选用不同的蒸发速率。作为沉积速率低会影响膜的性能的实际例子，是反射膜的沉积。如膜厚为600*10-8cm，蒸镀时间为3s时，其反射率为93%。但是，如果在同样的膜厚条件下将蒸速率放慢，采用10min的时间来完成膜的沉积。这时膜的厚度虽然相同。但是，反射率已下降到68%。

2.基片温度对蒸发涂层的影响

基片温度对蒸发涂层的影响很大。高的基片温度吸附在基片表面上的残余气体分子易于排出。---是水蒸气分子的排除更为重要。而且，在较高的温度下不但易于促进物理吸附向化学吸附的转变，从而增加粒子之间的结合力。而且还可以减少蒸汽分子的再结晶温度与基片温度两者之间的差异，从而减少或消除膜基界面的内应力。此外，由于基片温度与膜的结晶状态有关，在基片温度低或不加热的条件下，往往容易形成非结晶态涂层。相反在较高温度时，手机配件ip电镀哪里近，则易于生成晶态涂层。提高基片温度也有利于涂层的力学性能的提高。当然，基片温度也不能过高，以防止蒸发涂层的再蒸发。

pvd真空电镀的膜层严格上来说，是属于装饰膜层，它并不能改变原来工件所拥有的表面特性。如果产品本身毛胚粗糙，那么电镀出来就是粗糙的，如果想要光滑的表面，应该通过抛光技术去改变产品表面特性，要么就通过电镀底层膜层让产品变光滑。

pvd真空电镀的膜层的厚度大约在0.2μm-2μm左右，虽然不能让产品变光滑，但是能够在不影响工件表面下进行膜层电镀，提高产品的物理性能，诸如耐磨、耐刮擦、耐腐蚀等等，为产品增加附加值。

五金真空电镀过程和原理如下，在真空状态下来注入ya气，ya气桩基靶材，靶材通电电离成分子的使得五金件表面吸附沉积形成一层均匀的表面层。判断电镀产品如何，可以从以下方面：

市面上有很多不锈钢耳钉价格低廉，但容易褪色，手机配件ip电镀加工，不锈钢耳钉真空电镀却可以改掉易褪色这个问题，提升产品的品质，无论是在---的阳光，或者咸的湿地和城市环境下，都不易失去光泽。

目前穿戴耳钉已经成为潮流，而穿戴略大型的耳钉能---地显得脸瘦，但电镀处理不好会使人的皮肤受损，造成---等现象，不锈钢耳钉真空电镀因为是节能的加工工艺，且符合rohs标准，自然不会发生皮肤排斥反应，真空电镀也是很多首饰商家的加工选择。

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