它是将镀膜材料置于真空镀膜室内，通过蒸发源使其加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的尺寸后，蒸发的粒子从蒸发源表面溢出，pvd电镀公司，在飞向基片表面过程中很少碰到其他例子（主要是残余气体分子）的碰撞阻碍，直接到达基材表面上凝结而生成薄膜。
一般真空电镀在民用工业的装饰膜和包装膜中应用较多。例如：汽车、灯具、玩具、交通工具、家用电器用具、工艺美术品、日用小商品、手机边框、化妆品及其他一些包装类产品上。
真空电镀--磁控溅射镀膜技术
一、磁控溅射镀膜－溅射原理：
1.使chamber达到真空条件，一般控制在(2~5)e-5torr
2.chamber内通入ar，并启动dc power
3.ar发生电离：ar ? ar+ ＋ e-
4.在电场作用下，电子会加速飞向阳极
5.在电场作用下，ar+会加速飞向阴极的target（靶材），target粒子及二次电子被击出，前者到达substrate（基片）表面进行薄膜成长，pvd电镀厂，后者被加速至阴极途中促成更多的电离。
6.垂直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨迹，龙门pvd电镀，提高它参与气体分子碰撞和电离过程的几率的作用。
真空电镀可以在低成本的前提下，可以将廉价材料（如abs）的表面处理成金属表面的效果
真空电镀的工件表面保持干燥光滑，否则将---的影响表面效果
真空电镀的尺寸不仅受真空腔室体积的影响，还取决于工件本身的尺寸，例如板材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），pvd电镀哪里近，3d工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
真空电镀非常依赖人工操作，真空电镀过程中，工件需要喷涂，装载，卸载和再喷涂，所以人力成本相当高，但是也取决于工件的复杂度和数量。真空电镀对环境污染很小，类似于喷涂对环境的影响
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