深圳瑞泓科技有限公司-pvd电镀厂-嘉兴pvd电镀

相对蒸发电镀，磁控溅射有如下的特点：

1．膜厚可控性和重复性好

2.薄膜与基片的附着力强

3.可以制备绝大多数材料的薄膜，包括合金，化合物等

4.膜层纯度高，致密

5.沉积速率低，设备也更复杂

磁控溅射镀膜按照电源类型可分为：直流溅射、中频溅射、射频溅射。

反应溅射的应用：

1.现代工业的发展需要应用到越来越多的化合物薄膜。

2.如光学工业中使用的tio2、sio2和tao5等硬质膜。

3．电子工业中使用的ito透明导电膜，sio2、si2n4和al2o3等钝化膜、隔离膜、绝缘膜。

4.建筑玻璃上使用的zno、sno2、tio2、sio2等介质膜

在不同的行业电镀代表不同的意思。例如在现在的手机行业里，pvd电镀价格，水电镀很少有应用，在很多人的脑海里，pvd电镀厂，电镀一般指的真空镀，而在卫浴行业，水电镀的应用很多，当然一般的电镀指的水电镀。

水电镀和真空镀都属于镀膜，让我们从镀膜的分类说起，嘉兴pvd电镀，看看各类镀膜之间的区别是什么。

镀膜按成型方法分类如下:

1. 固相法:--- >;化学变化

2. 液相法:--- >;化学变化

3. 气象法:--- >;化学变化和物理变化

详细分类如下:

其中常用的镀膜方式有:水电镀、阳极氧化、真空蒸镀、真空溅镀、离子镀。接下来，将从cmf---的角度，对上述镀膜方法逐一讲解。