




真空离子镀技术具有下列优点:
1.可获得高硬度的镀层,镀层摩擦系数小,耐磨性高。
2.镀层化学稳定性好,抗高温氧化,耐蚀性好。
3.镀层美观。可获得如18k金的金黄---泽及其它彩色膜。
4.镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层,邵阳耳机配件真空电镀,镀层不易剥落。
5.生产过程对环境无污染。镀层形成速度快,节电、节水。
除了自然材料以外,耳机配件真空电镀哪里好,适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料(abs料、abs+pc料、pc料等等)、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂,耳机配件真空电镀加工厂家,加上工艺流程复杂,对环境要求高;为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响,因此对靶材尺寸有一定的要求,不适合大靶材,常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3d工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)
真空镀膜和光学镀膜的原理和区别
1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。
2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。
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