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真空镀膜是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种干式镀膜方法。

在应用中大体可分为：真空沉积、等离子体沉积、离子束沉积、离子束辅助沉积、等离子体喷涂等。以上所述各种方法统称为物理气相沉积。所不同的是把液体或固体成膜材料运输在基材表面沉积或与其他活性气体反应形成反应物在基体上沉积为固相薄膜的物理方式。真空镀膜工艺除了对基材起到保护作用外还赋予基材不同的外观效果以此来丰富人们的审美。真空电镀作为真空镀膜工艺之一被广泛应用于诸多领域，而我们化妆品外包装行业也是此工艺的应用和推广者之一。如下图所示，所采用的方式多为高温蒸发真空沉积。

真空电镀反应溅射：

1.在溅射镀膜时，有意识地将某种反应性气体如氮气，耳机配件真空电镀，氧气等引入溅射室并达到一定分压，即可以改变或者控制沉积特性，从而获得不同于靶材的新物质薄膜，2.如各种金属氧化物、氮化物、碳化物及绝缘介质等薄膜。

3.直流反应溅射存在靶z毒，阳极消失问题，上个世纪80年代出现的直流脉冲或中频孪生溅射，使反应溅射可以---的工业应用。

4.反应磁控溅射所用的靶材料（单位素靶或多元素靶）和反应气体（氧、氮、碳氢化合物等）通常很容易获得---的纯度，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。

5.反应磁控溅射中调节沉积工艺参数，可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，耳机配件真空电镀厂，从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。

6.反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高，而且成膜过程通常也并不要求对基板进行---温度的加热，因而对基板材料的---较少。

7.反应磁控溅射适合于制备大面积均匀薄膜，并能实现对镀膜的---工业化生产。