




如此严格的要求,国内一些厂家已开始尝试使用“三价铬”来替代“六价铬”;而真空电镀使用的镀层材质 广泛、容易符合要求.
简单一点,就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的 表面处理技术.
它有真空蒸发镀,溅射镀,离子镀等,获得这些沉积方法的途径有多种:电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法,可以根据 的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备.
对于传统的湿发电镀,真空电镀具有以下优点:
1.沉积材料广泛:可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属,通以反应气体和合金靶材更是可 以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层,而且可以根据需要设计涂层体系.
2.节约金属材料:由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良,沉积的镀层可以远远 小于常规湿法电镀镀层,达到节约的目的.
3.无环境污染:由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面,没有溶液污染,所以 对环境的危害相当小.

真空电镀特点
镀层附着性号,膜层不易脱落
绕镀性好,---了表面的覆盖度
镀层---
沉积速率高,成膜速度快
镀膜所适用的基体材料与膜材范围广
什么是pvd镀膜技术:pvd中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

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