深圳pvd电镀-pvd电镀加工-瑞泓科技(商家)

在电子光学中，一块光学镜片或石英石涂有一层或双层不一样成分的薄膜，这种薄膜可以越来越高反射或者非反射（即抗反射涂层），或当做一切资料的反射或电子散射原材料需要的占比。

可以制做吸收特殊光波长并电子散射另一光波长的滤光片。从大口径天文望远镜和各种激光发生器，pvd电镀加工，到新建筑中采用的栀子花大飘窗涂层，都必须真空电镀镀膜技术性。

镀金属膜层，将待镀产品传入装有金属靶材的镀膜腔室，开启泵抽真空及加热装置进行基底加热，使得本底真空达到1×10-3pa 及达到80-150℃工艺温度后，向腔室通入10-1000sccm的ya气，启动溅射电源，设置溅射功率1-15kw，镀膜时间10-300s，得到厚度为1-100nm的金属膜层，金属膜层为铜(cu)、银(ag)、铝(al)、铬(cr)等金属膜层，或镍铜(nicu)、镍铬(nicr)等合金膜层;

镀低折射率膜层，将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15kw，镀膜时间1-300s，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层，此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层;