pvd镀膜的具体原理是什么？
答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，真空电镀厂，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。
pvd镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？
pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
在对塑料制品实施蒸镀时，为了---金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。 此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，真空电镀加工，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜要求---的场合，真空电镀表面处理，则 要求压力---（ 10-5pa ）。
镀层厚度0.04-0.1um，太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%
在真空离子镀膜中，所选用不同气体所生产出来的，真空电镀，液态气体色泽也会不一样，ya气一般用作创造镀膜的环境镀钛和铬时，工业气体充入氮气可生产出银色和黄色的产品而想要生产---色或灰色的产品，则需要加入yi炔气体加入氧气则生产蓝色的产品。除了气体外所生产出的产品颜色还受压力、温度、时间等条件影响。
pvd镀膜涂层常用置配：
彩色系膜层和常规色膜层的区别就是c值和h值，所以可以说，黑色也是彩色系膜层。
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