真空电镀加工价格-博罗真空电镀-瑞泓科技公司

真空蒸发镀膜的定义

真空蒸发镀膜是在真空条件下，博罗真空电镀，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。括热蒸发和eb蒸发（电子束蒸发）

真空蒸发镀膜主要过程

1.采用各种能源方式转成热能，加热膜材使之蒸发或升华，真空电镀，成为具有一定能量的气态粒子（原子、分子和原子团）

2.离开膜材表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；

3.到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜

4.组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合

热蒸发原理及特点

热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。特点：装置便宜、操作简单广泛用于au、ag、cu、ni、in、cr等导体材料。

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控制系统，现在很多的镀膜机都采用全自动控制，但是在自动控制中的区别还是很大的，大多数还是在半自动的状态，真正能够实现全自动控制的，一键式操作的镀膜设备还不多，而且在自动控制中是否给操作中足够的安全互锁，功能模块也是区别很大的。