




pvd 是物理气相淀积,指通过物理手段(电、磁、重力),令气体中的特定成分淀积在晶圆表面,形成薄膜。磁控溅射是pvd 的一种,属于比较老的薄膜生长技术之一,优点是成本较低,可以生长的薄膜种类多,缺点是薄膜一致性较差,台阶覆盖不好,强度较低。
cvd 是化学气相淀积,寮步铝合金电镀,指令气体在晶圆表面发生化学反应,反应产物附着在晶圆表面形成薄膜。另外氧气(以及水蒸气)与晶圆本身反应生长氧化硅层一般单独分类为氧化,不属于cvd。优点是薄膜一致性好,缺点是受到反应气体种类---,不是所有的薄膜都能生长。
其他的薄膜生长工艺还有氧化、电镀、外延、键合等。各有各的适用范围。

pvd镀膜能够镀出的膜层种类,pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),铝合金电镀报价,以及氧化物膜(如tio等)。pvd镀膜膜层的厚度—pvd镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般0.3μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,镀后不须再加工。

pvd镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—pvd镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,铝合金电镀价格,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,铝合金电镀加工厂,灰黑色,七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数,可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色进行测量,使颜色得以量化,以确定镀出的颜色是否满足要求。
pvd离子镀膜具有如下优点:
a.膜层与工件表面的结合力强,---和耐磨
b.离子的绕射性能好,能够镀形状复杂的工件0v+r0s4
c.膜层沉积速率快,生产效率g
d.可镀膜层种类广泛
e.膜层性能稳定、安全性高(获得fda,可植入人体

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