pvd电镀-pvd电镀-瑞泓科技

pvd（技术是制备薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透、反射、保护导电、导磁、绝缘、耐腐蚀、防辐射、装饰等特殊功能的薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为 pvd镀膜材料。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种 pvd 镀膜方式。

以不锈钢钛金举例，pvd电镀，大致了解一下pvd技术。不锈钢工件清洗干净后进入真空罐，抽真空到10^-3pa这个级别，再通入氮气到0.1-1.0pa，钛金属放电通过等离子化的氮气，沉积到（负偏压）的工件上。沉积物是金色的氮化钛（tin）。

这种装饰性镀膜，厚度一般都是低于1微米，别想着性能有多少好。当然了，如果有几个微米厚度，pvd电镀表面处理，那硬度就ok了，可以胜任切削刀具的镀膜。

真空镀膜材料工艺流程

原料粉末——配料——混料——原料预处理——成型——预烧——真空烧结——分拣——真空包装

真空镀膜行业中，ya气的流量大小具体如何控制?

如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下：ya气如果只是调节压力，pvd电镀，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个---压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。如果是使用离子源，那么ya气入气量不宜过大，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。

任何固体材料在---环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。