离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，真空镀膜厂采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，耳机配件真空电镀，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。
表离子镀的种类及其特点
直流放电法 电阻 辉光放电dc:0.1kv～5kv 惰性气体1pa，0.25ma/cm2 结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！
耐热，润滑等镀件
弧光放电法 电子束、灯丝 弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa 离化率高，易制成反应膜，可在高真空下成膜，耳机配件真空电镀报价，利于提高 切削工具、金属装饰等镀件
空心阴极法 空心阴极 等离子体电子束dc:0v～200v
惰性气体或反应气体 离化率高，蒸发速度大，易获得高纯度膜层 装饰、耐磨等镀件
调频激励法 电阻、电子束 射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv
惰性气体或反应气体 离化率高，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差 光学、半导体等镀件
电场蒸发法 电子束 二次电子dc:1kv～5kv
真空电镀厂基体外表情况对联系力的危害
联系力一般 就是指一个物件粘刭另一个物件上的经营规模和水平。若一个镀层因机械设备力或形变而爆出，或被汽体吹脱，或者被浸蚀而脱离，则镀层缺乏联系力。真空电镀厂联系力是电沉积的关键性能参数，它与基体材料电镀前的外表情况拥有 十分立即而关键的联系，而联系力的优劣又立即危害着镀层的优劣。
真空电镀可分成一般真空电镀、uv真空电镀、真空电镀.加工工艺有蒸镀、溅镀等。
真空泵离子镀，耳机配件真空电镀表面处理，又被称为真空电镀.真空电镀的作法现在是一种较为时兴的作法，做出去的商品金属材料感重，更亮．而相对性别的的表层的镀膜法而言，成本费较低，对自然环境的环境污染小，如今为各领域普遍选用。
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