真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

但仍是一个不可忽视的数据，为处理这大量的污染，大部分企业已投放了共5868.1亿元在污水治理方面，464.8亿元在固体废物治理方面，就针对目前的情况来看，由于获得真空和等离子体的仪器设备较为精密昂贵，而且沉积工艺还掌握在少数---手中，并没有大量被推广，其投资和日常生产维护费用也昂贵。但是，相信随着社会的不断进步，东莞真空电镀的优势会越来越明显，在某些行业取代传统的湿法电镀是---，时间的问题！

电镀在工业上应用极其广泛,已深入到各个领域,在抗---腐蚀节省资源做出---贡献。电镀生产过程中有三废排放,又产生六价铬,使用qing化物,对环境污染---损害人体健康。而离子镀是在真空环境进行操作,不用酸碱盐,不产生六价铬,更不用qing化物,所以对环境没有污染对人体无害。

离子镀替代电镀势在必行,也是选择。离子镀膜根椐膜层厚度可分离子镀薄膜及离子镀厚膜,离子镀薄膜其膜层厚度均在1m~6m,主要用在装饰膜及刀具超硬膜制备,离子镀厚膜,膜层厚度40m以上,主要用在功能膜如高硬度耐磨膜、耐蚀膜及耐热膜等制备。电镀硬铬在机械制造业中应用很广泛,膜层厚度200m左右,硬度hv700-900。

显露的外面的表层被污染到，被污染的情况有很多种，一开始一般是由本身运转形成的。

要注意表层吸附、化学作用、清洁和晾干等过程、机械在各种运作过程中都有可能产生污渍使表面污染物增加。

前期开始注意机器的保养与清洁可以减少后期的很多麻烦，防止溅控溅射镀膜机各类小状况的发生，可提高工作效率、真空镀膜机镀膜的也起到相当重要的作用。